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(1) HDI工藝目前(2015年)已能做到16層。主要的限制是層多后增加了爆板的風(fēng)險(xiǎn)。
(2) 任意層芯板上為埋孔,其余層可設(shè)計(jì)為全電鍍填孔疊加。
(3) 采用激光直接鉆孔(LDD),孔形好,工序少,但對Cu厚有限制,一般應(yīng)小于等于8μm。LDD前,Cu面需要棕化,以便激光能量吸收,LDD后再把棕化層去掉。
(4) 對于非任意層板,比如“2+N+2”結(jié)構(gòu),內(nèi)層微埋孔孔盤環(huán)寬應(yīng)大些,因?yàn)榉e層部分對位必須服從通孔的對位,如圖1-31所示。層間對位是PCB制作的核心能力。
(5) 電鍍填孔常見的不良為空洞,如圖1-32所示。
(6) 傳統(tǒng)的電鍍填孔工藝ALIVH工藝制作的積層結(jié)合力要好。因此,一般將ALIVH技術(shù)用于制作內(nèi)層,而仍然采用傳統(tǒng)工藝制作表層與次表層。
(7) HDI最小板厚取決于疊層厚度,具體如下。
① 最小芯板(Core)厚度:50μm,其中介質(zhì)厚度為35μm。
② 最小半固化片(PP)厚度:33μm。
③ 最小Cu厚:17μm。
這樣,10層HDI板最小厚度只能做到
10(層)×17μm(Cu)+8(層)×33μm(PP)+1(層)×35μm(Core)+40μm(阻焊)=603μm
文章來源:靖邦
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